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  • LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)

LSC-5000 (AD) 全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)

  • NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于最先進的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達到最優(yōu)化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的專利技術確保了聲波能量均勻分布到整個基片表面，通過分布能量的最大化支持最理想的清洗，同時保證在樣片的損傷閾值范圍內。

產品詳情

LSC是占地面積較小，并且很容易安裝在空間有限的超凈間中。該系列設備都具有出眾的清洗能力，并可用于非常廣泛的基片。

LSC-5000 (AD)全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)應用：

  • 光刻膠去除/剝離

  • 硅片

  • 藍寶石片

  • 圓框架上的芯片

  • 顯示面板

  • ITO涂覆的顯示屏

  • 帶保護膜的分劃版

  • 掩模版空白部位

  • 掩模版接觸部位

  • 帶保護膜/不帶保護膜的掩模版

LSC-5000(AD)全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)的特點：

  • 支持450mm直徑的圓片或15”x15”方片

  • 帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學試劑滴膠臂的大腔體

  • 帶化學試劑滴膠的刷子轉速可調節(jié)

  • 帶LABVIEW軟件的PC全自動控制

  • 觸摸屏用戶界面

  • 機械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面

  • 安全互鎖及警報裝置

  • 30”D x 26”W 的占地面積  

LSC-5000(AD)全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)選配項：

  • 化學試劑傳輸模塊

  • Piranha溶液清洗                                       

  • 臭氧化DI水（20ppm的O3）

  • 氫化的DI水

  • 高壓DI水

  • 熱DI水

  • 溶劑和酸分離排放

  • IR紅外加熱

  • DI水循環(huán)機

  • 耐火立柜