PicoMaster 200無掩模激光直寫光刻機
●250納米分辨率（375納米激光源）
●300納米分辨率（405納米激光源）
●4095灰階
●業(yè)界最具實力的成套全息設計軟件
●最大230x230毫米基板尺寸
PicoMaster 200 是一款具有超高精度組件的多功能紫外激光寫入器，專為用戶提供在感光層中創(chuàng)建最高自由度的微結構而設計。系統(tǒng)的光柵化工作原理，搭配上高速掃描以及可調螺距步進激光頭，確保了整個曝光制程在感光層表面準確而穩(wěn)定地完成。PicoMaster 200 廣泛應用于半導體光刻，LED芯片，微流控芯片，微納結構，灰度光刻 ，三維加工全息影像等多個領域。
系統(tǒng)優(yōu)點：
√ 系統(tǒng)支持高達4095級的灰度、純二進制模式；
√ 系統(tǒng)對準精度最高小于250納米，線寬均勻性小于50納米；
√ 系統(tǒng)最大支持9英寸基版，400毫米/秒掃描速度，200x200毫米曝光面積；
√ 系統(tǒng)采取全封閉結構設計，必需的部件、控制架構和真空泵都在外殼內，便于快速安裝；
√ 統(tǒng)連接到空氣溫度調節(jié)器機組開始供應空調空氣時，內置堆式過濾器將產生干凈的交叉氣流；
√ 系統(tǒng)運動平臺由機械緩振系統(tǒng)支撐，它將過濾掉絕大多數(shù)的噪音振動，以確保工作時的振動最小
激光直寫：
√ 系統(tǒng)使用405納米（可升級375納米）激光源在感光層上曝光，不需訂購或制作掩模，圖案可隨用戶設計而改變；
√ 系統(tǒng)不使用掩模版，只需在基版上涂膠后用紫外激光聚焦進行曝光，激光在靶區(qū)被連續(xù)地調制到規(guī)定的劑量；
√ 光刻膠在激光照射下會改變其化學結構，曝光后很容易溶解在顯影劑中，只需暴露部分區(qū)域就可以形成目標的圖案。