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  • NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

NSC-3000 (A) 全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)

  • NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。

產(chǎn)品詳情

NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)概述:帶有水冷或者加熱(最高可加熱到700度)功能,最大到6"旋轉(zhuǎn)平臺(tái),最大可支持到3個(gè)偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵,極限真空可達(dá)10-7 Torr,15分鐘內(nèi)可以達(dá)到10-6 Torr的真空。通過(guò)調(diào)整磁控管與基片之間的距離,可以獲得想要的均勻度和沉積速度。

NSC-3000(A)帶有14”立方形鋁質(zhì)腔體,3個(gè)2”的磁控管,DC直流和RF射頻電源。 在選配方面,我們提供不銹鋼腔體,260 l/s渦輪分子泵,額外的磁控管和襯底加熱功能。

NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn):

  • 不銹鋼,鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃

  • 70或250l/s的渦輪分子泵,串接機(jī)械泵或干泵

  • 13.56MHz,300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源

  • 晶振夾具具有的<1 ?的厚度分辨率

  • 帶觀察視窗的腔門易于上下載片

  • 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)控制

  • 帶密碼保護(hù)功能的多級(jí)訪問(wèn)控制

  • 完全的安全聯(lián)鎖功能

  • 預(yù)真空鎖以及自動(dòng)晶圓片上/下載片

NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)選配項(xiàng):

  • 不銹鋼腔體

  • RF、DC濺射

  • RFDC偏壓(1000V

  • 樣品臺(tái)可加熱到700°C

  • 膜厚監(jiān)測(cè)儀

  • 基片的RF射頻等離子清洗

NSC-3000(A)全自動(dòng)磁控濺射系統(tǒng)應(yīng)用:

  • 晶圓片、陶瓷片、玻璃白片以及磁頭等的金屬以及介質(zhì)涂覆

  • 光學(xué)以及ITO涂覆

  • 帶高溫樣品臺(tái)和脈沖DC電源的硬涂覆

  • RF射頻等離子放電的反應(yīng)濺射